このページは、SEMI News 2004年7-8月号 開発秘話のへのリンクを容易にするために、記事に含まれる主要な用語を格納しているページです。実際の記事へのリンクは上記あるいは下記タイトルをクリックしてください。
日新イオン機器, 松田耕自, ドーパント, シリコン基板, 熱拡散, 中電流, 大電流, 高エネルギー, 日新ハイボルテージ, HVE, イオン加速器, 電子線照射, 国産技術, 導入技術, 電磁石, 質量分析, 磁界制御, ホール素子, スライドダウン, ベルト搬送, エンドステーション, 150ミリ径基板, ウエスタンエレクトリック, 200keV, EXCEED2300, イオンビーム走査, 大面積イオン源, イオンドーピング,
この頁は、リンク先の記事内容を「開発ものがたり」の検索で有効にさせるためのものです。
管理運営 ： 一般社団法人 半導体産業人協会 日本半導体歴史館委員会
〒160-0022 東京都新宿区新宿6－27－10 塩田ビル２02号室 TEL：03-6457-2345 FAX：03-6457-2346 E-mail：info@ssis.or.jp URL：http://www.ssis.or.jp
掲載されている文章ならびに写真等、すべての項目について無断で転載・複写することを禁じます
Copyright (C) 2001-2014, SSIS All Rights Reserved