開発秘話:半導体工場水処理のクローズドシステム [SEMI News]

日本半導体歴史館「開発ものがたり」検索用頁

- 開発ものがたりトップ頁に戻る -

このページは、SEMI News 2007年3-4月号 開発秘話のへのリンクを容易にするために、記事に含まれる主要な用語を格納しているページです。 実際の記事へのリンクは上記あるいは下記タイトルをクリックしてください。

 SEMI News 2007年3-4月号 32~33頁 「半導体工場水処理のクローズドシステム

 【上記の記事に含まれる主要な用語】

栗田工業, 中川隆生, 純水, 排水, 回収, 再利用, DRAM, RO・UF膜, 不純物, 無排水, 逆浸透,  限外ろ過, 分離除去, スラッジ, 産業廃棄物, イオン交換, 樹脂, K-CDI, UV酸化, 循環使用, 有機物, 分解, パイロットテスト,  高圧UVランプ, 過酸化水素, 低圧UVランプ, 0.1μm粒径, 微粒子測定, 光顕法, SEM法, ゼロエミッション, 蒸発濃縮, 16k DRM, 4M DRAM, 脱塩,


この頁は、リンク先の記事内容を「開発ものがたり」の検索で有効にさせるためのものです。

 関連リンク欄

SEMI News 開発秘話集

ENCORE誌  2001年1月