開発秘話:デバイス配線微細化とPVD成膜技術の競争 [SEMI News]

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 SEMI News 2007年5-6月号 24~25頁 「デバイス配線微細化とPVD成膜技術の競争

 【上記の記事に含まれる主要な用語】

アルバック, 豊田聡, ULVAC, IBM, Cu配線, LSI, Al配線, メッキ埋込み, デュアル・ダマシン,  バリア膜, シード膜, LTS, Long Throw Sputter, SIS, Self Ionized Sputter, ステップカバレージ,  自己保持放電, イオンリフレクタ, 負バイアス, ウェーハ, ターゲット, マグネトロンスパッタ, Cuイオン, ホール底, ホール側壁, 0.09μm,  オーバーハング, RFバイアス, Ta膜, モジュレーション, 70nm,


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