このページは、SEMI News 2008年3-4月号 開発秘話のへのリンクを容易にするために、記事に含まれる主要な用語を格納しているページです。 実際の記事へのリンクは上記あるいは下記タイトルをクリックしてください。
テクノス, 西荻一夫, 金属汚染, シリコン, ウェーハ, ISO14706, ISO17331, 遷移金属, Fe, Cu, 鏡面, 表面分析, EDX, エネルギー分散蛍光X線分析, 検出器, SSD, X線源, 回転対陰極, ダイレクト照射, モノクロ励起, 単色励起, バックグラウンド, 単色化結晶, ウェーハマッピング, Charles Evans, EAG, 異物検査, 九州大学, 米田, 堀内,
この頁は、リンク先の記事内容を「開発ものがたり」の検索で有効にさせるためのものです。
管理運営 : 一般社団法人 半導体産業人協会 日本半導体歴史館委員会
〒160-0022 東京都新宿区新宿6-27-10 塩田ビル202号室 TEL:03-6457-2345 FAX:03-6457-2346 E-mail:info@ssis.or.jp URL:http://www.ssis.or.jp
掲載されている文章ならびに写真等、すべての項目について無断で転載・複写することを禁じます
Copyright (C) 2001-2014, SSIS All Rights Reserved