このページは、SEMI News 2009年 No.1 開発秘話のへのリンクを容易にするために、記事に含まれる主要な用語を格納しているページです。 実際の記事へのリンクは上記あるいは下記タイトルをクリックしてください。
ルネサステクノロジ, 塚本克博, MOS, 閾値電圧制御, 結晶構造, 損傷, 非晶質, 固層エピ成長, 注入原子, ドーパント, トランジスタ, ペース形成, ボロン, ヒ素, エミッタ, 高周波, 高出力, 自動車無線, DRAM, リフレッシュ特性, 64K, 大電流, イオンビーム, MeV, イオン加速器, タンデム型, 静電加速器, CMOS, ウエル, レトログレード, 注入マスク, i線, ネガ型, 化学増幅レジスト, 四重極型,
この頁は、リンク先の記事内容を「開発ものがたり」の検索で有効にさせるためのものです。
管理運営 : 一般社団法人 半導体産業人協会 日本半導体歴史館委員会
〒160-0022 東京都新宿区新宿6-27-10 塩田ビル202号室 TEL:03-6457-2345 FAX:03-6457-2346 E-mail:info@ssis.or.jp URL:http://www.ssis.or.jp
掲載されている文章ならびに写真等、すべての項目について無断で転載・複写することを禁じます
Copyright (C) 2001-2014, SSIS All Rights Reserved