日本半導体イノベーション50選  (T-2 1960年代)

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フォトレジストの国産化

1960年代の半導体デバイス製作にはコダック(米)のネガ型フォトレジストKPRが独占的使われていたが、東京応化は国内で初めてネガ型フォトレジストOMR-81の開発に成功、1968年に製造販売を開始し、国内の多くの半導体メーカーに採用された。1972年には国産初のポジ型フォトレジストOFPR-2の開発に成功、これを改良した1979年発売のOFPR-800はシップレイ(米)のAZ-1350にかわって、64K DRAM製造でほとんどのDRAMメーカーが採用し、デファクトスタンダードの位置を確立した。その後、JSR(当時日本合成ゴム)、信越化学、富士フィルム(当時富士写真フィルム)等が参入し、今日では世界のフォトレジスト需要の70%以上を日本メーカーが供給し、世界の半導体産業を支えている。

フォトレジスト
( 東京応化HPより)
(C)TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD

リンク欄

日本半導体歴史館 対象展示室

半導体産業人協会 ENCORE誌2005年10月号
半導体用感光樹脂と関連設備、開発物語(PDF)

SEMI NEWS 2004年9〜10月号(PDF)
開発秘話:ボジ型フォトレジスト P16-17 参照

独立行政法人 科学技術振興機構 [JST] HPより
「フォトレジスト技術の最新の進歩」 (PDF)

独立行政法人 科学技術振興機構 [JST] HPより
「感光性樹脂の電子工業への応用」 (PDF)