1959年

ステップ・アンド・リピートカメラ

〜装置・材料/リソグラフィ〜


1959年、Fairchild Semiconductorによってプレーナープロセス型の集積回路を発明された[1]。ここでFairchildのJay LastとRobert Noyceは、ウェーハ上のフォトレジスト[2]に集積回路チップのパターンを繰り返し転写するステップ・アンド・リピートカメラを製作した。これによって、一枚のシリコンウェーハに同一チップを多数形成する集積回路製造の基本方式が確立した。このステップ・アンド・リピートカメラの基本原理をベースにして、1961年にGCAのDavid W. Mann部門からフォトマスク製造に用いるフォトリピーター[3]が販売されるようになった。さらに1978年、このフォトリピータ―の原理を用いた縮小投影露光装置[4]が開発され、現在のフォトリソグラフィへと展開することになった。


[参考文献]
[1] 半導体歴史館:1959年:プレーナ型ICの発明(Robert Noyce、米国 Fairchild)
[2] 半導体歴史館:1950年代:ネガ型フォトレジスト

[3] 半導体歴史館:1961年:フォトリピーター

[4] 半導体歴史館:1978年:縮小投影露光装置


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[1] 1950年代後半:ネガ型フォトレジスト
[2] 1960年代:コンタクト方式リソグラフィ技術によるシリコンデバイスの製造
[3] 1960年代:フォトリピーター
[4] 1960年代:フォトマスク製造用縮小カメラ

[5] 1970年代中頃:リソグラフィー技術がコンタクト露光方式からプロキシミティ露光方式へ移行
[6] 1960年代:コンタクト露光装置

[7] 1960年代:ネガ型フォトレジストの展開

[8] 1960年代:パターンジェネレータ―

[9] 1970年代後半:リソグラフィ分野でプロジェクション・アライナーが登場

[10] 1970年代:プロキシミティ露光装置およびプロジェクション露光装置
[11] 1970年代:ポジ型フォトレジス

[12] 1978年代:縮小投影露光装置

[13] 1970年代:電子線描画装置

[14] 1980年代前半:微細化が進みリソグラフィはステッパに移行

[15] 1980年代:g線縮小投影露光装置の展開

[16] 1990年代後半:露光光源の短波長化(i 線からエキシマレーザー光へ)

[17] 1990年代前半i線縮小露光装置

[18] 1990年代後半:エキシマステッパー

[19] 1990年代後半:化学増幅系レジスト

[20] 2000年代:露光装置の光源がArFエキシマレーザーに移行し、更にレンズの液浸化適用拡大

[21] 2000年代:高解像度化技術

[22] 2000年代:液浸スキャナー


[最終変更バージョン]
Ver.001 2018/07/09