開発ものがたり

SEMIジャパン関連記事

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タイトル 執筆者(敬称略) 号数 発行年月 掲載ページ
半導体露光装置(株)ニコン 諏訪 恭一 3 2003年5-6月 20-21
縦型装置(株)日立国際電気 黒河 治重 4 2003年7-8月 20-21
コータ・デイベロッパ-(MARK V)東京エレクトロン九州(株) 木村 義雄 5 2003年9-10月 18-19
洗浄装置大日本スクリーン製造(株) 大神 信敏 6 2003年11-12月 16-17
ダイサ(株)ディスコ 関家 一馬 1 2004年1-2月 22-23
メタル用マイクロ波エッチング装置(株)日立ハイテクノロジーズ 川崎 義直 2 2004年3-4月 18-19
プローバ東京エレクトロン(株) 井上 準一 3 2004年5-6月 20-21
イオン注入装置日新イオン機器(株) 松田 耕自 4 2004年7-8月 20-21
ポジ型フォトレジスト東京応化工業(株) 浅海 慎五 5 2004年9-10月 16-17
300ミリ シリコンウエーハ三菱住友シリコン(株) 京極 哲朗 6 2004年11-12月 18-19
特殊ガスジャパンファインプロダクツ(株) 秦 裕一 1 2005年1-2月 24-25
ウエハー搬送ロボットタツモ(株) 仕田原 仁志 2 2005年3-4月 16-17
クリーン環境の創造三機工業(株) 長谷川 勉 3 2005年5-6月 20-21
マスクブランクスHOYA(株) 流川 治 4 2005年7-8月 24-25
プローブカード日本電子材料(株) 古崎 新一郎 5 2005年9-10月 20-21
DRAM酸化膜エッチング装置の開発東京エレクトロンAT(株) 田原 好文 6 2005年11-12月 24-25
集積化ガスシステム(株)フジキン 山路 宮治雄 1 2006年1-2月 24-25
MEMS用シリコン深堀りエッチング装置の開発住友精密工業(株) 神永 晉 2 2006年3-4月 20-21
半導体封止材料住友ベークライト(株) 筧 允男 3 2006年5-6月 18-19
大型ガラス基板用レジストコータ大日本スクリーン製造(株) 木瀬 一夫 4 2006年7-8月 24-25
産業用超小型放射光源「AURORA」(株)SEN(旧住友イートンノバ) 高橋 令幸 5 2006年9-10月 22-23
液晶用レジスト塗布装置東京応化工業(株) 佐合 宏仁 6 2006年11-12月 24-25
縦型SiGeエピタキシャル成長装置開発の道のり(株)日立国際電気 国井 泰夫 1 2007年1-2月 28-29
半導体工場水処理のクローズドシステム栗田工業(株) 中川 隆生 2 2007年3-4月 32-33
デバイス配線微細化とPVD成膜技術の競争(株)アルバック 豊田 聡 3 2007年5-6月 24-25
マルチチャンバプラズマCVD装置の開発と背景サムコ(株) 立田 利明 4 2007年7-8月 22-23
スパッタ成膜中の欠陥低減(材料メーカーのアプローチ)日鉱金属(株) 大橋 建夫 5 2007年9-10月 24-25
分析業務における短納期の実現(株)住化分析センター 長谷川 幹男 6 2007年11-12月 24-25
電熱式半導体プロセス排ガス除害装置開発の歴史カンケンテクノ(株) 今村 啓志 1 2008年1-2月 24-25
全反射蛍光X線分析装置の開発(株)テクノス 西萩 一夫 2 2008年3-4月 20-21
シリコンメサトランジスタから(100)結晶面特許へ(株)日立製作所 大野 稔 5 2008年9-10月 24-25
LDD発明物語松下電器産業(株) 江崎 豪彌 6 2008年11-12月 24-25
高エネルギーイオン注入三菱電機(株) 塚本 克博 1 2009年 28-29
NANDフラッシュメモリ(株)東芝 中根 正義 2 2009年 24-25
HEMT(高電子移動度トランジスタ)富士通(株) 三村 高志 3 2009年 24-25
DZIGシリコンウェーハ(株)日本電気 津屋 英樹 4 2009年 20-21
MoSi位相シフトマスクへの道のり三菱電機(株) 渡壁 弥一郎 1 2010年 20-21
1M DRAM(株)東芝 齋藤 昇三 2 2010年 22-23
CCDイメージセンサソニー(株) 越智 成之 3 2010年 24-25
IGBT
(Insulated Gate Bipolar Transistor:絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)
(株)東芝
秀島 誠 4 2010年 24-25
液晶ディスプレイシャープ(株) 石井 裕 1 2011年 16-17
東北大学ウェーハレベルパッケージングによるMEMS 江刺 正喜 2 2011年 16-17
CDSEM
(Critical Dimension Scanning Electron Microscope)
(株)日立製作所
佐藤 貢 3 2011年 18-19
?フラッシュメモリ搭載マイコン(株)日立製作所 牧本 次生 4 2011年 18-19
半導体用電子ビームマスク描画装置(株)ニューフレアテクノロジー 滝川 忠宏 1 2012年 20-21
ウエーハ・レベル・バーンイン技術の開発松下電器産業(株) 中田 義朗 2 2012年 18-19
低消費電力SHシリーズマイコン(株)日立製作所 馬場 志朗 3 2012年 18-19
Cell Broadband Engine(株)東芝 斎藤 光男 4 2012年 16-17
Si-MOSFETを用いた
移動体通信用高周波モジュール(Si-MOSモジュール)
(株)日立製作所
吉田 功 1 2013年 20-21
ArFレジスト材料-成長と創出-(株)日本電気 長谷川 悦雄 2 2013年 16-17

開発秘話 コーヒーブレーク

タイトル 執筆者(敬称略) 号数 発行年月 掲載ページ
海外から見た日本の半導体技術開発スタンフォード大学 西 義雄 2 2009年 26
日米半導体戦争半導体シニア協会 牧本 次生 2 2010年 24
ものづくり日本の姿を思う東京大学 小川 紘一 4 2010年 26
宇宙を旅し世界に羽ばたくTRON東京大学 坂村 健 2 2011年 18
キルビー特許訴訟電気通信大学 井桁 貞一 4 2011年 20
日米の狭間から見た光景と長い旅元KLA-Tencor/現Molecular Imprints 溝上 祐夫 2 2012年 20

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