開発秘話:MEMS用シリコン深堀りエッチング装置の開発 [SEMI News]

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 SEMI News 2006年3-4月号 20~21頁 MEMS用シリコン深堀りエッチング装置の開発

 【上記の記事に含まれる主要な用語】

住友精密工業, 神永晉, 微細加工プロセス, ファウンドリサービス, DRIE, Deep Reactive Ion Etch, Robert Bosch, STS, ボッシュプロセス, 高アスペクト比, ICP, Inductively Coupled Plasma,  側壁垂直度, サイドエッチ, ノッチング, PEGASUS, センサー, インクジェットプリンターノズル, ディスプレー, 犠牲層ドライエッチング,  シリコンジャイロ,


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