開発秘話:マルチチャンバプラズマCVD装置の開発と背景 [SEMI News]

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 SEMI News 2007年7-8月号 22~23頁 「マルチチャンバプラズマCVD装置の開発と背景

 【上記の記事に含まれる主要な用語】

サムコ, 立田利明, 太陽電池, カルコゲナイド, 結晶シリコン, 化合物, ダンディー大学, Spear, Lecomber,  アモルファス, 置換型ドーピング, 価電子制御, 大阪大学, 浜川, 東工大, 高橋, 小長井, 電総研, 松田, 日立, 右高, 三洋電機,  桑野, RCA, Carlson, 低温プラズマ, 変換効率, 5.5%, 辻, NASA, バッチ式, クロスコンタミネーション, インライン,  Plasma Physics, 1W/100円, 光CVD, 8%,


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