クリーンベンチ

1960年代

クリーンベンチ

～装置・材料／ファブ・共通～

集積回路の製造が本格化した1960年には、特にフォトリソグラフィ工程における塵埃等による歩留低下が問題となり、製造環境の清浄化が重視された。1960年頃、Fairchild Semiconductorは換気フードで内部を陽圧に保って塵埃汚染を防ぐ装置を作った^[1]。この方法をEastman Kodakもフォトレジスト開発に使用した。いわゆるクリーンベンチの原型である。半導体ウェーハを扱うあらゆる作業には歩留確保に塵埃除去が鍵であり、クリーンベンチは不可欠となった。その後、部屋全域を清浄化するクリーンルーム方式へと展開して行くことになった。

[参考文献]
[1] Diversity, Complementarity, and Cooperation Materials Innovation in the Semiconductor Industry

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Ver.002/ 2019/12/18