1950年代

超純水

〜装置・材料/エッチ・洗浄・研磨〜


高純度化が要求されるトランジスタや集積回路(IC)の製造では、超純水による洗浄が不可欠となった。超純水はゴミを濾過した後に、 イオン交換法で純化するのが一般的である。イオン交換樹脂は1935年に発明され、1938年にはIG・ファルベン(ドイツ)によって工業化された。現在主流となっている スチレン系(スチレン・ジ・ビニルベンゼン)イオン交換樹脂は、1944年にGEで開発された。Rohm and Hass Company(現在はDow Chemical)などがイオン交換樹脂を製造販売する ようになった。日本では1946年に三菱化学がイオン交換樹脂を製品化、オルガノが純水製造装置の販売を開始した(1950年)。1950年代に始まる本格的な半導体産業を支える 超純水製造の工業化が確立された。


[関連展示]
[1] 半導体歴史館:1970年代:RCA洗浄


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半導体歴史館の洗浄関連展示は以下でご覧ください
[1] 1970年代:RCA洗浄
[2] 1980年代:ウルトラクリーン・テクノロジーの進展
[3] 1980年代後半:ウェーハ裏面洗浄装置
[4] 1990年代前半:ワンバス式ウェーハ洗浄装置

[5] 2000年:枚葉洗浄装置

 


[最終変更バージョン]
Ver.001 2018/07/09