1960年代

フォトマスク製造用縮小カメラ

〜装置・材料/リソグラフィ〜


コンタクト露光法[1]に用いるフォトマスクは、@ ルビー紙と呼ばれる赤いシートからパターンを切り抜いた100〜400倍のアートワーク(原図)を作成(図1)、A この原図を縮小カメラによって縮小し、10倍のレチクル(原版)を作成、B このレチクルを感光乳剤を塗布したフォトマスク基板にフォトリピーター[2]によって1/10縮小投影して製作された。

Aのレチクル形成は、@で作成されたルビー紙のアートワークの背面から緑色の蛍光灯で照射し、縮小カメラでレチクル基板上に精確に10倍の寸法に撮影して作成する。最初の縮小カメラはGCAによって製造された。フィルム製版印刷用のカメラを製造していた大日本スクリーン(現SCREENホールディングス)は、HPの要請を受けて1966年に半導体用として懸垂式の精密な縮小カメラ(アンバサダー C-59)を開発した(図2)。この縮小カメラは米国の主要半導体メーカーに使用され、さらに日本半導体メーカーにも広く使用された。


図1 アートワーク作業


図2 縮小カメラ(アンバサダー C-59)(SCREENホールディングス提供)


[参考文献]
[1] 半導体歴史館:1960年代:コンタクト方式リソグラフィ技術によるシリコンデバイスの製造
[2] 半導体歴史館:1961年:フォトリピーター


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[1] 1950年代後半 :ネガ型フォトレジスト
[2] 1950年代後半 :ステップ・アンド・リピートカメラ
[3] 1960年代:コンタクト方式リソグラフィ技術によるシリコンデバイスの製造
[4] 1960年代:フォトリピーター

[5] 1970年代中頃:リソグラフィー技術がコンタクト露光方式からプロキシミティ露光方式へ移行
[6] 1960年代:コンタクト露光装置

[7] 1960年代:ネガ型フォトレジストの展開

[8] 1960年代:パターンジェネレータ―

[9] 1970年代後半:リソグラフィ分野でプロジェクション・アライナーが登場

[10] 1970年代:プロキシミティ露光装置およびプロジェクション露光装置
[11] 1970年代:ポジ型フォトレジスト

[12] 1978年代:縮小投影露光装置

[13] 1970年代:電子線描画装置

[14] 1980年代前半:微細化が進みリソグラフィはステッパに移行

[15] 1980年代:g線縮小投影露光装置の展開

[16] 1990年代後半:露光光源の短波長化(i 線からエキシマレーザー光へ)

[17] 1990年代前半i線縮小露光装置

[18] 1990年代後半:エキシマステッパー

[19] 1990年代後半:化学増幅系レジスト

[20] 2000年代:露光装置の光源がArFエキシマレーザーに移行し、更にレンズの液浸化適用拡大

[21] 2000年代:高解像度化技術

[22] 2000年代:液浸スキャナー


[最終変更バージョン]
Ver.001 2018/07/09